エルビウムガラスレーザーは、ゲイン培地としてガラスにドープされたエルビウムイオン（ER³⁺）を使用する効率的なレーザー源です。このタイプのレーザーには、近赤外波長範囲、特に1530〜1565ナノメートルの間に重要な用途があります。これは、光学通信では光ファイバー光学の透過特性と一致し、信号伝達の距離と品質を効果的に向上させるためです。
作業原則
1.ゲイン培地：レーザーのコアは、エルビウムイオン、一般的にエルビウムドープYbガラスまたはエルビウムドープクォーツガラスをドープしたガラス材料です。これらのエルビウムイオンは、レーザーのゲイン培地として機能します。
2。励起出典：エルビウムイオンは、キセノンランプや高効率ダイオードレーザーなどのポンプ光源に励起され、励起状態に移行します。ポンプ源の波長は、エルビウムイオンの吸収特性と一致して、最適な励起を実現する必要があります。
3.自発的および刺激された放出：励起されたエルビウムイオンは、他のエルビウムイオンと衝突する可能性のある光子を自発的に放出し、刺激の発光を引き起こし、光強度をさらに増加させる可能性があります。このプロセスは継続的に繰り返され、レーザーの増幅につながります。
4.レーザー出力：レーザーの両端のミラーを介して、いくつかの光が選択的にゲイン培地に供給され、光学共鳴を作成し、最終的に特定の波長でレーザー出力を生成します。
重要な機能
1.波長：主要な出力波長は1530-1565ナノメートルの範囲です。これは、光ファイバー通信における効率的なデータ伝送に特に重要です。
2.コンバージョン効率：エルビウムガラスレーザーは、ポンプ光変換効率が高く、さまざまなアプリケーションで優れたエネルギー利用を提供します。
3.ブロードバンドゲイン：それらは広いゲイン帯域幅を備えており、最新のコミュニケーション需要を満たすために複数の波長信号を同時に処理するのに適しています。
アプリケーション
1.ファイバーオプティック通信：通信システムでは、エルビウムガラスレーザーが信号増幅と再生に使用され、特に長距離ファイバーネットワークで伝送距離と品質を大幅に改善します。
2.材料処理：レーザー切断、溶接、彫刻などの工業地域に広く適用されているエルビウムガラスレーザーは、エネルギー密度が高いため、正確な材料処理を実現します。
3.Medical：医療分野では、生物学的組織の特定の波長における優れた吸収特性により、皮膚の問題や眼科手術などのさまざまなレーザー処理にエルビウムガラスレーザーが利用されます。
4.Lidar：一部のLIDARシステムでは、Erbium Glassレーザーが検出と測定に使用され、自律運転と地形マッピングの正確なデータサポートを提供します。
全体として、Erbium Glassレーザーは、効率的で信頼性の高いパフォーマンスにより、複数のフィールドにわたって有意な用途の可能性を示しています。
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投稿時間：10月10日 - 2024年